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    應用分享 | 氬離子設備 (XPS、PHI710、TOF-SIMS)

    更新時間:2024-11-13點擊次數:464

    氬離子設備

    對于表面分析,樣品表面極易被污染。

    為了清潔被污染的固體表面,在能譜分析中,常常利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面。

    利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖。

    同時,離子設備也兼具中和樣品表面荷電的作用。

    一、氬離子設備原理圖

    ▲ 圖1 氬離子設備原理圖

    二、氬離子設備實圖

    ▲圖2 氬離子設備圖

    三、氬離子設備主要作用

    > 清潔(樣品表面被污染)

    清潔被污染的樣品表面,利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面

    > 濺射(對樣品進行深度剖析)

    利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,以獲得元素成分沿樣品深度方向的分布

    > 荷電中和

    中和樣品表面的荷電 

    四、氬離子設備多種參數設定

    根據樣品需要設置多種參數選擇性

     

     ▲圖3 氬離子設備多種參數選擇

    五、不同設備儀器的氬離子設備

    ▲圖4 氬離子設備在XPS上 

     

     ▲圖5 氬離子設備在PHI710上 

    ▲圖6 氬離子設備在TOF-SIMS上

    六、簡易便捷的氬離子設備燈絲實體圖

    ▲ 圖7 XPS的氬離子設備燈絲 

    ▲ 圖8 PHI710的氬離子設備燈絲 

    ▲圖9 TOF-SIMS的氬離子設備燈絲

    結語

    氬離子設備已廣泛應用在各表面分析設備上,且可以根據樣品進行參數的設定選擇,是進行表面分析不能缺少的構件。

    -轉載于《PHI表面分析 UPN》公眾號

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